In-situ-Rasterkraftmikroskop
Das In-situ-Rasterkraftmikroskop Litescope 2.0 des Herstellers Nenovision dient der korrelativen Messung von Oberflächeneigenschaften durch Methoden der Rasterkraft- und Rasterelektronenmikroskopie.
Dabei ermöglicht es durch die Möglichkeit des Einbaus in ein Rasterelektronenmikroskop eine simultane Durchführung beider Methoden der Mikroskopie. Neben der einfachen Messung der Topografie können durch Kelvinsondenmikroskopie, Magnetkraftmikroskopie oder Leitfähigkeitsrasterkraftmikroskopie elektrochemische, magnetische oder elektrische Eigenschaften im Nm-Bereich ermittelt werden.
